明白：光学元件.pdf
光学元件
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技术领域
本发明涉及一种光学元件，尤其涉及一种具有抗反射膜的光学元件。西格玛光机http://www.gzyuli.com/guangxuepingtai/sigma/【SIGMA西格玛光机一级代理商】广州誉立电子科技有限公司是一家集光学平台、光学隔振平台、光学气浮隔振平台、光纤调芯电控位移台、物镜等光学平台研发生产、销售服务于一体的厂家公司，并代理了国内外先进的光学仪器和显微物镜器件等，是sigma西格玛光机总代理，主要有物镜,光学隔振平台,刚性隔振平台,气浮隔振平台,光谱分析仪,光纤调芯位移台,无掩膜直写光刻设备,空间光调制器,高光谱仪,显微物镜,光纤光谱仪等。热线:020-38880135
背景技术
镜头模组一般由若干光学元件组成，如凹透镜、凸透镜、影像感测器等。当光线进入镜头模组时，一般来讲，得到的影像以入射角为0度的光线强度最强，并随着入射角的增大而浅弱，因此，影像的边缘部分通常是大角度的入射光聚焦而得到，在亮度跟影像中央存在较大的落差，使得影像亮度不均匀。
由于光线经过多次的反射、折射等入射到影像感测器上进而在影像感测器上成像，角度大的入射光的光强已经减弱，由于多次的反射，光强再次被减弱，使得图像边缘的亮度与中央的亮度存在更大的落差。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可增加大角度入射光的穿透率的具抗反射单元的光学元件。
一种光学元件，其包括本体和设置在所述本体一个表面上的抗反射单元，所述抗反射单元包括依次设置在所述本体上的第一镀膜层、第二镀膜层、第三镀膜层、第四镀膜层以及最外面的第五镀膜层，所述第一镀膜层、第三镀膜层和第五镀膜层为厚度在6至100纳米之间的二氧化硅膜层，所述第二镀膜层和第四镀膜层为厚度在10至200纳米之间的二氧化钛膜层。
与现有技术相比，本发明实施例的光学元件上设置有间隔设置的二氧化硅、二氧化钛的镀膜，在镀膜之间形成一些折射率不同的界面，使得入射光经由各个界面反射回来的光波之间产生破坏性的干涉，较少的反射光或者无反射光产生，从而使得光的穿透率增高。
附图说明
图1是本发明实施例光学元件的示意图，其包括抗反射单元。
图2是光线通过两种抗反射单元时波长与穿透率关系示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。
请参阅图1，本发明实施例提供的光学元件10包括本体12和位于本体12上的抗反射单元14。
本体12可由无色或者有色的光学玻璃或者光学塑料制成，其包括相对设置的入光面121和出光面122，光线经由入光面121入射到本体12内部并传输，然后由出光面122射出。
抗反射单元14位于入光面121上，包括依次设置在入光面121上的第一镀膜层141、第二镀膜层142、第三镀膜层143、第四镀膜层144和第五镀膜层145，第五镀膜层145位于最外层。
第一镀膜层141、第三镀膜层143和第五镀膜层145为厚度在6至100纳米(nm)之间、具有低折射率的二氧化硅(SiO2)膜层。
第二镀膜层142和第四镀膜层144为厚度在10至200纳米之间、具有高折射率的二氧化钛(TiO2)膜层。
利用气相沉积方法如真空沉积方法、等离子体沉积方法、溅射方法等方法在入光面121上依次形成第一镀膜层141、第二镀膜层142、第三镀膜层143、第四镀膜层144和第五镀膜层145。
入射光依次通过第五镀膜层145、第四镀膜层144、第三镀膜层143、第二镀膜层142和第一镀膜层141入射到入光面121上，由于镀膜层之间存在一些折射率不同的界面，使得入射光经由各个界面反射回来的光波之间产生破坏性的干涉，较少的反射光或者无反射光产生，更多的入射光进入本体12内，从而使得光的穿透率增高。
请参阅图2，横坐标代表入射光的波长(nm)，纵坐标代表光线的穿透率(％)。
曲线1、2分别抗反射单元14为样本1、2和入射角为45度时，波长与穿透率的关系，样本1、2的具体结构如下表所示。
样本1样本2镀膜层厚度(纳米)镀膜层厚度(纳米)第一镀膜层14141.353第一镀膜层1418.822第二镀膜层14216.219第二镀膜层14215.566第三镀膜层14336.758第三镀膜层14336.654第四镀膜层144130.622第四镀膜层144131.999第五镀膜层14587.300第五镀膜层14597.785
由曲线1可知，波长在480.1纳米至619.5纳米之间，样本1的穿透率在93.2％至93.7％之间，穿透率与波长之间的关系变化比较复杂，随着波长的增加，穿透率逐渐下降，然后逐渐上升；当波长大于619.5纳米时，穿透率有所下降。
由曲线2可知，波长在480.1纳米至619.5纳米之间，样本2的穿透率均在93.7％以上，穿透率的变化比较平缓，随着波长的增加，穿透率也逐渐增加，；当波长大于619.5纳米时，穿透率有所下降，但是，穿透率大于样本1在同样波长下的穿透率。
虽然，入射光通过样本1、2的穿透率的变化趋势不同，但是，二者均有较高的穿透率。
另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化，当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。 不知该说些什么。。。。。。就是谢谢 昌平的网上家园 哈哈 平台不错啊 帮你顶下哈！！ 有竞争才有进步嘛 谢谢楼主，共同发展 沙发！沙发!
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