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标题: 分析：等离子表面清洗技术，去除材料表面有机污染物和氧化层 [打印本页]

作者: guozhiwei 时间: 2023-6-6 08:52
标题: 分析：等离子表面清洗技术，去除材料表面有机污染物和氧化层

　　等离子清洗设备可以起到活化、刻蚀、沉积、接枝聚合等作用。一般需要处理的相关材料表面往往会有脏东西，有机污垢和氧化层，在粘合时、焊接、可以借助低温等离子处理，得到充分洁净且无氧化的表面层。等离子清洗机品牌https://www.mjsds.com/深圳纳恩科技有限公司,国产等离子清洗机生产厂家,plasma等离子清洗机品牌排名前十,主营低温真空/大气/小型实验型等离子清洗机,等离子清洗设备,等离子表面处理机,等离子表面清洗机,产品广泛应用于半导体封装有机物氧化物清洗,材料表面活化,亲水性改善,粘接性改善等场合。

　　在微电子生产过程中，等离子表面清洗技术已经开始成为一种不可或缺的工艺过程。而等离子表面清洗设备，业内更常见的名称为“等离子清洗机”，也开始为人所熟知。

　　等离子清洗区别于传统清洗（如机械清洗、水洗与溶剂清洗）之处在于，传统的清洗方式在清洗完成后，通常在表面仍然存在几纳米至几十纳米厚度的残留。而随着精密加工工艺的要求越来越严苛，这些残留往往会对工艺过程与产品可靠性产生不良的影响。

　　材料表面的污染物的主要来源一般有两种，通过物理化学方式吸附在表面的外来分子与表面自然氧化层：

　　材料表面的污染物

　　物理吸附的外来分子一般可以通过加热的方式使之解吸附，而化学吸附的外来分子则需要比较高能化学反应过程才能将之解吸附脱离材料表面；

　　表面自然氧化层一般生成在金属表面，会对金属的可焊性以及与其它材料的结合性能产生影响。

　　等离子表面清洗

　　等离子表面清洗技术可以有效处理以上两种类型的表面污染物，而处理过程首要需要选择合适的处理气体。在等离子表面清洗过程中，最常用的工艺气体为氧气与氩气。

　　氧气在等离子环境中可以电离产生大量含氧的极性基团，可以有效去除材料表面的有机污染物，并将极性基团吸附在材料表面，有效提升材料的结合性–微电子封装工艺中，塑封前的等离子处理是此类处理的典型应用。经过等离子处理的表面具有更高的表面能，可以有效与塑封材料结合，减少塑封工艺中分成、针孔等现象的产生。

　　氩气在等离子环境中可以生成氩离子，并利用材料表面生成的自偏压对材料进行溅射，消除表面吸附的外来分子并可以有效去除表面金属氧化物–在微电子过程中，打线前的等离子处理为此种工艺的典型代表。经过等离子处理的焊盘表面由于去除了外来污染物与金属氧化层，可以提升后续打线工艺的良率与焊线的推拉力性能。

　　在等离子清洗工艺过程中，除工艺气体的选择，等离子电源、电极结构、反应压力等多种因素均会对处理效果产生不同的影响。在之后的介绍中，我们将结合实例向大家介绍等离子在各个行业中的应用实例。

　　举报/反馈

作者: 啊林 时间: 2023-6-9 09:22
学习了，谢谢分享、、、

作者: 萧风丝雨 时间: 2023-6-13 14:08
帮帮顶顶！！

作者: 加州老人 时间: 2023-6-18 08:49
有竞争才有进步嘛

作者: 失去记忆的人 时间: 2023-6-27 07:00
为自己家乡的社区网贡献点力量，回个帖子

作者: 小猪芬迪克 时间: 2023-7-5 00:51
有竞争才有进步嘛

作者: 飞豹游侠 时间: 2023-7-22 12:52
我是个凑数的。。。

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